The VNX-EX module is designed with proven IONPURE? continuous electrodeionization (CEDI) technology to produce high purity water. Performance has been tuned for ultrapure water demands of the microelectronics industry.

IONPURE HWS-I 操作簡單、工作性能穩定、運行成本低廉，這是 IONPURE 膜堆的顯著特征。HWS-I 熱水消毒型膜堆適用于

IONPURE LX-MK 替換型膜堆是專門為替代 E-Cell 膜堆面設計的，大大降低了更換所需的工作。IONPURE LX-MK 膜堆可以極其

IONPURE LX-UP 超純水型膜堆是專門為高科技微電子制造業面設計的。超純水型膜堆采用創新的突破技術，使凈化能力

IONPURE LX-X 工業型膜堆是專門為工業應用面設計的。IONPURE LX-X 膜堆可以極其可靠地生產出質量穩定的高純水。

IP-LX-Z 工業型膜堆是專門為工業應用面設計的。IP-LX-Z 膜堆可以極其可靠地生產出質量穩定的高純水，而不會由于再生面中斷運行。

IONPURE MX 小流量膜堆可以極其可靠地生產出質量穩定的高純水，不會由于再生而中斷運行。膜堆可以用于各種小流量

IONPURE 超純水專用(CDI 電解式連續去離子膜塊組)，CEDI 全名為 Continuous Electrodeionization(電解式連續去離子法)，其主要用途乃針對半導體、電廠、電子、制 藥或實驗室等高科技產業提供高純度之超純水需求，該科技自 1987 年由 IONPURE 研 發團隊發表問世以來至今已過 18 年歷史，其研發成果及多項世界專利技術不但能提供 最佳產品品質，并以注冊之專利名稱 CDI，使其研發成果成就市場領導者地位，且聞名 于世界成就其市場領導者地位。

需要 LX-H 或 LX-HI 膜堆和熱水（并非蒸汽） 一般消毒溫度為 80°C 目標控制范圍為 80－85°C，最高 90°C。 在消毒過程中，要求進口壓力低－30psi（2bar）